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建军是哪一年国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要

建军是哪一年>　　金(jīn)融界4月24日消息，国家知识产权局(jú)局长申长雨(yǔ)在(zài)新闻发布会上表示，将统筹推进各类(lèi)知识产权法律法规和(hé)制度(dù)规则的制修订(dìng)工作(zuò)。其中，修(xiū)改完善(shàn)集成电路布图(tú)设计保护条例，适应大规模集(jí)成电路发展(zhǎn)需要，助力芯(xīn)片产业做大做(zuò)强，服务数字经(jīng)济(jì)更好发展。

　　加强大数据、人工(gōng)智能、基因(yīn)技(jì)术等新领(lǐng)域新业态知识产权规则(zé)研究，助力相关领域(yù)创新发展(zhǎn)。同时(shí)，积极参(cān)与知(zhī)识产权国(guó)际规(guī)则制定，更好(hǎo)对接高(gāo)标(biāo)准(zhǔn)国际经贸规则，助力高水(shuǐ)平对外开放。

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