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恒星年和回归年的区别通俗易懂的,恒星年和回归年的区别原因 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融(róng)界4月24日消息,国家(jiā)知识(shí)产权局(jú)局长申长(zhǎng)雨在(zài)新闻发布会上表示,将统筹推进各类知(zhī)识(shí)产权(quán)法律法规和制度规则的制修(xiū)订工作(zuò)。其中,修(xiū)改完善集成电路布图(tú)设计保护(hù)条例,适(shì)应大规模集成(chéng)电路发展需要,助力(lì)芯片产(chǎn)业做大(dà)做强,服务(wù)数字经济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因技术等新领域新恒星年和回归年的区别通俗易懂的,恒星年和回归年的区别原因业态知识产权规则研究(jiū),助力相关领域创新发展。同时(shí),积(jī)极参与知识产权国际规则制(zhì)定,更(gèng)好对(duì)接(jiē)高(gāo)标准国(guó)际经贸规则(zé),助力高(gāo)水平对外开(kāi)放。

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