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重庆小面调料哪个牌子正宗一些呢 重庆小面是碱水面吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界(jiè)4月24日消息,国家知识产权局局长(zhǎng)申长雨在(zài)新闻发(fā)布(bù)会上(shàng)表示,将(jiāng)统(tǒng)筹推进(jìn)各类知识产权法律(lǜ)法规和制度规则的制修(xiū)订(dìng)工作。其中,修(xiū)改完善集成电路布(bù)图(tú)设计保护条例,适应大(dà)规(guī)模重庆小面调料哪个牌子正宗一些呢 重庆小面是碱水面吗集成电路发展需要(yào),助力芯片(piàn)产业做(zuò)大做强,服务数字(zì)经济(jì)更好发(fā)展。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基因技(jì)术等新领域新业态(tài)知识(shí)产权规则研究(jiū),助力(lì)相关领域(yù)创新(xīn)发(fā)展。同时,积极(jí)参(cān)与知识产(chǎn)权国际规则制定,更好对接(jiē)高标准国际经贸规则,助(zhù)力(lì)高水(shuǐ)平对外开放。

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