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40目筛网孔径是多少毫米 40目筛网孔径多大 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则(zé)突发消息。

  美光(guāng)公司在(zài)华销售的产品未通过网(wǎng)络安(ān)全审查

  据网信办消息,日(rì)前,网络安全审查办公室(shì)依法(fǎ)对美光(guāng)公司在华销售产品进(jìn)行了网络安(ān)全(quán)审查。

  审(shěn)查发现,美光公(gōng)司产品存在较严重(zhòng)网络安全问题隐(yǐn)患,对(duì)我国关键信息(xī)基础设施供应链造成重大安全风险(xiǎn),影响(xiǎng)我国国家安全。为此,网络安(ān)全(quán)审查办公室(shì)依法作出不予通过网络安全审查的结(jié)论。按照(zhào)《网络安全法》等法律法规,我国内关键信息(xī)基础设施的运(yùn)营者(zhě)应停(tíng)止采购美光公司产(chǎn)品。

  此次对美光(guāng)公司(sī)产品进行网络安全审查,目的是防范产品网络安(ān)全问题危害国家关键信息基础设施安全,是维护国家安全的必要(yào)措施。中国(guó)坚(jiān)定推(tuī)进高(gāo)水平对外开放,只要遵守中国(guó)法律法规要求,欢迎各国企业(yè)、各类平台产品服务进(jìn)入(rù)中(zhōng)国市场。

  半导体(tǐ)突发!中国出(chū)手:停(tíng)止采购!

  3月31日,中国网信(xìn)网发文称(chēng),为保40目筛网孔径是多少毫米 40目筛网孔径多大障关键(jiàn)信息(xī)基础设施供应链安(ān)全,防范产品问题(tí)隐(yǐn)患造成网络安(ān)全(quán)风险(xiǎn),维(wéi)护国(guó)家安(ān)全,依(yī)据《中(zhōng)华人民共和国国家安全法》《中华人(rén)民共和国(guó)网络(luò)安全(quán)法》,网(wǎng)络安(ān)全审查办公(gōng)室按照《网络安全审查(chá)办法》,对美光(gu40目筛网孔径是多少毫米 40目筛网孔径多大āng)公司(Micron)在华销售(shòu)的产(chǎn)品实施网(wǎng)络安(ān)全审查。

  半导体突发!中国出(chū)手:停止(zhǐ)采购!

  美光是美(měi)国的存储(chǔ)芯片(piàn)行业(yè)龙头,也是全球存储(chǔ)芯片(piàn)巨(jù)头之一,2022年收(shōu)入来(lái)自中国市场收入从此(cǐ)前高峰57%降至2022年(nián)约11%。根据市(shì)场咨询机(jī)构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年(nián)三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠、西部数(shù)据(jù)、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市(shì)场份额约为 96.76%,三星(xīng)电子、 SK 海力(lì)士、美(měi)光在全(quán)球 DRAM (内存)市场份额约为(wèi) 94.35%。

  A股(gǔ)上(shàng)市公司(sī)中(zhōng),江(jiāng)波龙、佰维存储等公司披(pī)露过美(měi)光等国际存(cún)储(chǔ)厂商为公司供应(yīng)商(shāng)。

  美光在江波(bō)龙采购占(zhàn)比已经显著(zhù)下降(jiàng),至少已(yǐ)经(jīng)不(bù)是主要大供应商。

  公告(gào)显示(shì), 2021年美光位(wèi)列江波龙第一大(dà)存储晶圆供应商,采购约(yuē)31亿元,占比33.52%;2022年(nián),江波龙第一大、第二大和第(dì)三大供应(yīng)商采购金额占比(bǐ)分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在(zài)存储产业链上下游建(jiàn)立(lì)国(guó)内外广泛合作。2022年(nián)年报显示,江波龙与(yǔ)三(sān)星、美光(guāng)、西部(bù)数据(jù)等主要存储晶圆原厂签署了(le)长期合(hé)约,确保存储晶圆供应的(de)稳定性(xìng),巩固公司在(zài)下游市场的(de)供应优势,公司(sī)也与国(guó)内国产存储晶圆原厂武(wǔ)汉长江存储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合作。

  有券商此前(qián)就分析,如果美光在中(zhōng)国(guó)区销售受(shòu)到限制,或将导致下游客户转而(ér)采购国外三星、 SK海力士,国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞(jìng)对产品(pǐn)

  分(fēn)析称,长存、长鑫(xīn)的上(shàng)游设备厂(chǎng)或从中受益。存(cún)储器的生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进入3D NAND时代(dài),2 维到3维(wéi)的结构转变(biàn)使刻蚀和薄膜(mó)成为最关键、最大(dà)量的加(jiā)工设(shè)备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积(jī)工艺步骤,同时刻蚀(shí)目前前(qián)沿(yán)要刻(kè)到 60:1的深孔,未来(lái)可能会更深的孔或者沟(gōu)槽,催(cuī)生更多设备(bèi)需求(qiú)。据东京电子(zi)披(pī)露,薄膜沉积(jī)设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本(běn)开支合计为(wèi)75%。自长江存储(chǔ)被加入美国限制名(míng)单,设备国(guó)产化(huà)进(jìn)程加速,看(kàn)好拓荆科技(薄膜(mó)沉积(jī))等相关公(gōng)司份额提升,以及存储业务占比较高的华海清(qīng)科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等(děng)收入增(zēng)长。

 

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