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　　美光公司在华(huá)销售的产(chǎn)品(pǐn)未通(tōng)过网络安全审查(chá)

　　据网信办(bàn)消息，日前，网络安全审(shěn)查办公室依法对美光公司在华销售产品进行了网络安全审查。

　　审查发(fā)现，美光公司产品存在较严重网络安全问题(tí)隐患(huàn)，对我国关键(jiàn)信息基础设施供(gōng)应链造成重大(dà)安全风险，影响我国国家安(ān)全。为此，网络安全(quán)审查办公室依法(fǎ)作出不予通(tōng)过网络(luò)安全审查的(de)结论。按照《网络(luò)安全(quán)法》等压缩面膜蚕丝和纯棉的哪个好用，压缩面膜哪个牌子好用法律法规，我国内关键信息(xī)基础(chǔ)设施的运(yùn)营者(zhě)应停止采购美光公(gōng)司产品。

　　此(cǐ)次对美(měi)光公司产品进行网络安全(quán)审(shěn)查，目的是(shì)防(fáng)范(fàn)产品网络安全问题危害国家关键信息基础设施安全，是维护国家安全的必(bì)要措施(shī)。中国坚定推进高水平对外开放(fàng)，只要遵守中(zhōng)国法律法(fǎ)规要求，欢迎各国(guó)企业、各类(lèi)平台产品(pǐn)服(fú)务进(jìn)入(rù)中国市(shì)场。

　　3月31日，中国(guó)网(wǎng)信网(wǎng)发(fā)文称(chēng)，为(wèi)保障关(guān)键信息基(jī)础(chǔ)设施供应链(liàn)安(ān)全，防范(fàn)产品问题隐患造成网络安全风险，维护国(guó)家安全，依(yī)据《中(zhōng)华人民(mín)共和国(guó)国家安全法(fǎ)》《中(zhōng)华(huá)人(rén)民共(gòng)和国网络安全法》，网络安全审查(chá)办公室(shì)按照《网络安全审(shěn)查办法》，对美光公司（Micron）在华销售的产品(pǐn)实施(shī)网络(luò)安全审查。

　　美(měi)光是美国的存(cún)储芯片行(xíng)业龙头，也(yě)是(shì)全球存储(chǔ)芯(xīn)片巨头之一，2022年收入来自(zì)中国市场收入从此前高(gāo)峰57％降至2022年约(yuē)11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三(sān)星电子、 铠侠、西部数据、SK 海力(lì)士(shì)、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存(cún)）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士(shì)、美(měi)光在全球 DRAM （内存）市场份(fèn)额约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙、佰(bǎi)维存储等公司披露过美光等国际存储厂商为公司(sī)供(gōng)应(yīng)商(shāng)。

　　美(měi)光在江波龙采购(gòu)占比已经显著下降，至少已经不是主要(yào)大供应商。

　　公(gōng)告显示， 2021年美(měi)光位列江波龙第一大存(cún)储晶圆供应商，采(cǎi)购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一(yī)大、第二大和第(dì)三大供应(yīng)商采购金额占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在存(cún)储产业链(liàn)上下(xià)游(yóu)建立国内外广泛合作。2022年年报显示，江波龙(lóng)与三星、美光、西部(bù)数据(jù)等主要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合(hé)约，确保存(cún)储(chǔ)晶圆供应的(de)稳定性，巩(gǒng)固公司(sī)在下游市场的供应(yīng)优势，公司(sī)也与国(guó)内国(guó)产存储(chǔ)晶圆原(yuán)厂(chǎng)武汉长江(jiāng)存储(chǔ)、合肥(féi)长鑫保持(chí)良好的合(hé)作。

　　有券商此压缩面膜蚕丝和纯棉的哪个好用，压缩面膜哪个牌子好用前就(jiù)分析(xī)，如果(guǒ)美光在中国区销售(shòu)受到限制(zhì)，或将导(dǎo)致下游客户转而采购国外三(sān)星、 SK海力(lì)士，国(guó)内长(zhǎng)江存储、长鑫存储等竞对产(chǎn)品(pǐn)

　　分析称，长存(cún)、长鑫(xīn)的(de)上游设备厂或从中受益。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结(jié)构(gòu)转(zhuǎn)变使刻蚀和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺(yì)步(bù)骤，同时刻蚀(shí)目(mù)前前沿(yán)要刻到 60：1的深(shēn)孔，未来可(kě)能会更深的孔或者沟(gōu)槽，催生(shēng)更多设(shè)备需求。据东京电子披露(lù)，薄(báo)膜沉积设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长江存储被加入美(měi)国限制名单，设备国(guó)产(chǎn)化进程(chéng)加(jiā)速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相(xiāng)关公司份额提(tí)升，以及存储业务(wù)占(zhàn)比(bǐ)较高的华海清科(kē)（CMP）、盛(shèng)美上(shàng)海（清(qīng)洗）等收入增(zēng)长。

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