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3尺是多少厘米,3尺3是多少厘米 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家(jiā)好,来看一(yī)则突发消息(xī)。

  美光(guāng)公(gōng)司(sī)在华销售的产品未通过网络安(ān)全审查

  据(jù)网信办消(xiāo)息,日前,网络(luò)安全审查办公(gōng)室依法对美光公司在华销售(sh3尺是多少厘米,3尺3是多少厘米òu)产品进行了(le)网(wǎng)络安全审查。

  审查(chá)发(fā)现,美(měi)光公(gōng)司产品存在较严(yán)3尺是多少厘米,3尺3是多少厘米重网络安全问(wèn)题隐(yǐn)患,对我国关(guān)键信息基础设施供应链造成重大安全风险(xiǎn),影(yǐng)响(xiǎng)我(wǒ)国国(guó)家安全。为此,网络安全审查办公室(shì)依法作出不予通过网络安全(quán)审查的结论。按照《网络(luò)安(ān)全(quán)法》等法律法规,我国内(nèi)关键信息(xī)基(jī)础设施的运营者应停止采购美光公(gōng)司产(chǎn)品。

  此(cǐ)次对美光(guāng)公司(sī)产(chǎn)品进行网(wǎng)络安全审查,目的是防范产品网络安全问(wèn)题危(wēi)害国家(jiā)关键(jiàn)信(xìn)息基础设施安全,是维护(hù)国家(jiā)安全的必要措施。中(zhōng)国坚定推进高(gāo)水平对(duì)外开放(fàng),只要遵守中国法律法规要求,欢迎各国企业(yè)、各类平台产品服务进入中(zhōng)国(guó)市场。

  半导体突发!中国出手:停(tíng)止(zhǐ)采购!

  3月31日,中国(guó)网信网发文称,为保障(zhàng)关(guān)键信息(xī)基础设施供(gōng)应链安全,防范产品问题隐患造成网(wǎng)络安全风险(xiǎn),维(wéi)护(hù)国家安全(quán),依据《中华(huá)人民共和(hé)国(guó)国家安全法》《中(zhōng)华人民共和国网络安全法(fǎ)》,网络安全审(shěn)查办公室按照《网络(luò)安全(quán)审查办(bàn)法(fǎ)》,对美光公司(Micron)在华(huá)销售的产品(pǐn)实施网(wǎng)络安全审查。

  半导体突发!中国出手:停止采购(gòu)!

  美光是美国的(de)存储(chǔ)芯片行业龙头,也是(shì)全球存储芯片巨(jù)头之(zhī)一,2022年(nián)收入来自中国市场(chǎng)收入从(cóng)此前高峰57%3尺是多少厘米,3尺3是多少厘米降至2022年约11%。根据市(shì)场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数(shù)据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪(shǎn)存)市场份额(é)约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光在全(quán)球 DRAM (内存)市场(chǎng)份额约为 94.35%。

  A股上市公(gōng)司中,江波龙、佰维存储等公司披(pī)露(lù)过美光等(děng)国际(jì)存储厂商为公司供应商。

  美光在江波龙采购占比已经(jīng)显(xiǎn)著下降,至少(shǎo)已(yǐ)经不是(shì)主要大供应商。

  公告显示, 2021年美(měi)光位列江波龙第一大存储晶圆供应商(shāng),采购约31亿(yì)元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江(jiāng)波龙第(dì)一大、第二大和第三大供应(yīng)商采购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前(qián)江(jiāng)波龙已经在存储产业链上(shàng)下游(yóu)建(jiàn)立国内(nèi)外广泛(fàn)合(hé)作。2022年(nián)年报显示,江波(bō)龙与三星、美光、西(xī)部数(shù)据等(děng)主要存储晶圆原厂签署了长期合约,确(què)保存储(chǔ)晶(jīng)圆供(gōng)应的稳定性,巩(gǒng)固公司在下游市场的供应优势,公(gōng)司也与国内国(guó)产存(cún)储晶圆原厂武汉长江存(cún)储、合肥(féi)长鑫保持良(liáng)好的合作。

  有券商此前就分析,如果(guǒ)美(měi)光在中国区销售受到限制,或将(jiāng)导致下游客(kè)户转(zhuǎn)而采购国外三(sān)星、 SK海(hǎi)力士,国(guó)内长江存储、长鑫(xīn)存储等竞对(duì)产品(pǐn)

  分析称(chēng),长存、长(zhǎng)鑫(xīn)的上游设备厂或从中受益。存储器的生产已(yǐ)经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另(lìng)外NAND Flash现在(zài)已经进入3D NAND时(shí)代,2 维到(dào)3维(wéi)的(de)结构转(zhuǎn)变(biàn)使刻(kè)蚀和(hé)薄膜成(chéng)为(wèi)最关键、最大量的加工设(shè)备。3D NAND每(měi)层(céng)均需要经过薄膜沉积工艺步(bù)骤,同(tóng)时刻蚀目前前沿要刻到(dào) 60:1的(de)深孔,未来可(kě)能会(huì)更深的孔或者沟槽,催(cuī)生更多设备需(xū)求。据东(dōng)京电子披露,薄膜(mó)沉积设备及刻蚀(shí)占(zhàn)3D NAND产线资本开支合计为75%。自长江存储被加入(rù)美国限制名单,设(shè)备国产化进程加速,看(kàn)好拓荆科技(薄膜沉积)等(děng)相关公司(sī)份(fèn)额提(tí)升,以及存储(chǔ)业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科(CMP)、盛美(měi)上海(清洗)等收入增长。

 

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