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建军是哪一年

建军是哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融(róng)界4月24日消(xiāo)息(x建军是哪一年ī),国家知识(shí)产权局局长申长雨在新闻发布(bù)会(huì)上表示,将(jiāng)统筹推进各(gè)类知识产(chǎn)权(quán)法律(lǜ)法规(guī)和制(zhì)度(dù)规则的制修订工作。其中(zhōng),修改完(wán)善(shàn)集成电路(lù)布(bù)图设计保护(hù)条例,适应大(dà)规模(mó)集成电路发展需(xū)要,助力芯片(piàn)产(chǎn)业做(zuò)大做强(qiáng),服务数字经济更(gèng)好发展。

  加强(qiáng)大数据、人工智能、基因技术等新领(lǐng)域新业态知识产权规(guī)则(zé)研究(jiū),助力相关领域(yù)创(chuàng)新发展。同时,积极(jí)参与知识产权国际规则(zé)制定,更(gèng)好(hǎo)对接高标准(zhǔn)国际(jì)经贸规(guī)则,助力高(gāo)水平对(duì)外开放。

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