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禧与喜的区别是什么,喜字logo设计 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日(rì)消息,国家知识产权局局(jú)长(zhǎng禧与喜的区别是什么,喜字logo设计)申长雨在(zài)新闻发布会上表示(shì),将统筹推进各(gè)类知识产权法律法规(guī)和制度规(guī)则的(de)制修订工作。其(qí)中(zhōng),修改(gǎi)完善集(jí)成电路(lù)布图设计保护条例(lì),适应大规模(mó)集成电(diàn)路发展需要,助力(lì)芯片(piàn)产(chǎn)业做大(dà)做强,服务数字经济更好发展。

  加(jiā)强大(dà)数据、人工智能、基因技术等新领域(yù)新业(yè)态(tài)知识产权规则研究,助力相关领域创新发展(zhǎn)。同时,积极参与(yǔ)知识产(chǎn)权国际规则制定,更好(hǎo)对接(jiē)高标准国(guó)际(jì)经贸规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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