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金允智致命之旅演的谁 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消息(xī),国家知识产权局(jú)局长申长雨在新闻发布会上表(biǎo)示(shì),将统(tǒng)筹推进各类知(zhī)识产(chǎn)权(quán)法(fǎ)律法规和制度规则的制修订工作。其中,修(xiū)改(gǎi)完善集(jí)成电路(lù)布图设(shè)计保护条例,适应(yīng)大规模集(jí)成(chéng)电路(lù)发展需要,助(zhù)力芯片(piàn)产业做大做强(qiáng),服务金允智致命之旅演的谁数字经济更(gèng)好发展。

  加强大(dà)数据、人(rén)工智(zhì)能、基因技术等新(xīn)领域新业态(tài)知(zhī)识产(chǎn)权(quán)规则研究,助力(lì)相关(guān)领域创新发展。同(tóng)时,积极参与知识产权国际规则制定,更好(hǎo)对接高标准国际经贸(mào)规则,助(zhù)力高水平(píng)对外开放。

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