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　　美光公司在(zài)华销售的(de)产(chǎn)品(pǐn)未(wèi)通过网络(luò)安全审查

　　据网信(xìn)办(bàn)消息，日前，网络(luò)安(ān)全审查办公(gōng)室依法对美光公司(sī)在华销售产品进行了网络安全审(shěn)查。

　　审查(chá)发现，美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)存在较严(yán)重(zhòng)网络安全问题隐患，对我国关键信息(xī)基础设施供应链造成重大(dà)安全风险，影响我国国(guó)家安(ān)全(quán)。为此，网络安全审查办公(gōng)室依法作出不予通过网络安全审(shěn)查的结(jié)论。按照(zhào)《网(wǎng)络(luò)安全(quán)法》等法律法(fǎ)规，我国内关键(jiàn)信息(xī)基础设施(shī)的运营者应停止(zhǐ)采购美光公司(sī)产品。

　　此次对美光公司产(chǎn)品进行网络安(ān)全审查，目的是(shì)防范产品网络(luò)安全问题危害国(guó)家(jiā)关键信息基础设施安全，是(shì)维护(hù)国家安全的必要措施(shī)。中国(guó)坚定推(tuī)进高水(shuǐ)平对(duì)外开(kāi)放，只要遵守中国法律法规要求，欢迎各国企业(yè)、各类平台产(chǎn)品服务进入(rù)中国(guó)市场(chǎng)。

　　3月31日(rì)，中(zhōng)国网信网(wǎng)发文称，为保障关键信息基础设施供应链(liàn)安(ān)全，防范产品(pǐn)问题隐患(huàn)造成网络(luò)安全(quán)风险，维护国(guó)家安全，依据(jù)《中华人民共和国国家安全法(fǎ)》《中华人(rén)民共(gòng)和国网(wǎng)络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室按照《网络安全审查办法》，对美(měi)光公司（Micron）在华销(xiāo)售的产品实(shí)施网络安全(quán)审查。

　　美光是(shì)美国(guó)的存储芯片行业龙头，也是全球存储芯片巨头之一，2022年(nián)收入来自(zì)中国市场收入从(cóng)此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨(zī)询机构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份(fèn)额约为(wèi) 96.72000克是多少斤 2000克等于多少公斤6％，三星电子(zi)、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份(fèn)额约为 94.35％。

　　A股上市公(gōng)司中(zhōng)，江波(bō)龙、佰(bǎi)维(wéi)存(cún)储等公司披(pī)露过美(měi)光等国际存储厂商为2000克是多少斤 2000克等于多少公斤(wèi)公司(sī)供应商。

　　美光在江波(bō)龙采购占比已经显著下(xià)降，至少已经不(bù)是主要大供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美(měi)光位列江波龙第一大存储晶(jīng)圆(yuán)供应商(shāng)，采购约(yuē)31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第一大(dà)、第二大(dà)和第(dì)三大供(gōng)应商(shāng)采购金额(é)占比(bǐ)分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业链上下游(yóu)建(jiàn)立国内外广泛合作。2022年(nián)年报显示，江波龙与三星、美光、西(xī)部数据等主要(yào)存储晶圆原厂(chǎng)签(qiān)署了长期(qī)合约(yuē)，确保存储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下(xià)游市场的供(gōng)应(yīng)优势，公司也与国(guó)内国产存储(chǔ)晶(jīng)圆原厂武汉长江存储、合肥(féi)长鑫(xīn)保持(chí)良好的合作。

　　有券商此前就分析，如果美光在(zài)中国区销售受(shòu)到限制，或将导致下(xià)游客户转而采(cǎi)购国外三(sān)星、 SK海(hǎi)力士，国内长(zhǎng)江存储、长鑫存(cún)储等竞对产品

　　分析称(chēng)，长存、长鑫的(de)上游设备(bèi)厂(chǎng)或从(cóng)中受益。存(cún)储器的生产已(yǐ)经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结构转变使刻蚀(shí)和薄膜成为最(zuì)关键、最(zuì)大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄(báo)膜沉积工艺步骤，同时刻蚀目前前沿要(yào)刻(kè)到(dào) 60：1的深(shēn)孔，未来可能会更(gèng)深的(de)孔或(huò)者(zhě)沟槽，催生更(gèng)多设(shè)备(bèi)需求。据东(dōng)京电(diàn)子披露(lù)，薄(báo)膜沉积设备及刻蚀占3D2000克是多少斤 2000克等于多少公斤 NAND产线资本开支合(hé)计(jì)为75％。自长(zhǎng)江存(cún)储(chǔ)被(bèi)加入(rù)美国限制名单，设备国产化进程加(jiā)速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相(xiāng)关公(gōng)司(sī)份额(é)提升(shēng)，以及存(cún)储业务占比较(jiào)高的华海清科（CMP）、盛(shèng)美上海(hǎi)（清(qīng)洗）等(děng)收(shōu)入增长。

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