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　　美光公司在(zài)华销售的产品未通过网络(luò)安(ān)全审查

　　据网(wǎng)信办消息，日前，网络安全审查办公室依(yī)法对美光公(gōng)司(sī)在华销售(shòu)产品进行了网络安全审查(chá)。

　　审查发现，美光公司产品存在较严重网络安(ān)全(quán)问(wèn)题隐患，对(duì)我(wǒ)国关键信息基(jī)础(chǔ)设施供应(yīng)链造成重大(dà)安(ān)全风险，影响(xiǎng)我(wǒ)国(guó)国家安全(quán)。为此(cǐ)，网(wǎng)络安全审查办公室依法作出不予通过网络安(ān)全审查的结论(lùn)。按照《网(wǎng)络安全法》等法律法规，我国内(nèi)关键信息(xī)基础设施的运营者应停止采购美(měi)光公司产品。

　　此(cǐ)次(cì)对美光公司产品进行网(wǎng)络安全审(shěn)查，目的(de)是防范产品网络安全(quán)问(wèn)题危害国家关键(jiàn)信息(xī)基础设施安全，是维(wéi)护国家安全的必要措施。中国坚(jiān)定推进高水平对外开放，只要遵(zūn)守(shǒu)中国法律法(fǎ)规要(yào)求，欢迎各国(guó)企业、各类平台产品服务进入中(zhōng)国市场。

　　3月31日，中国网信网发文(wén)称，为保(bǎo)障关键信息基础设施供应(yīng)链安全，防(fáng)范产品问题隐患造成网络安(ān)全(quán)风险，维护国家安(ān)全，依(yī)据《中(zhōng)华人民共和(hé)国国(guó)家安全法》《中华人(rén)民共和(hé)国网络安全法(fǎ)》，网络安全(quán)审查办公室(shì)按照《网络(luò)安全审查办法》，对(duì)美光公司（Micron）在华销售的产品实(shí)施网络安(ān)全审查。

　　美(měi)光(guāng)是美国的存储芯片行业龙头，也是全球(qiú)存储芯片巨头之一，2022年收入来自中国市场收入从(cóng)此前高(gāo)峰57％降至(zhì)2022年约(yuē)11％。根据市场咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年(nián)三星电子、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额约为 96.76％，三星电(diàn)子、 SK 海(hǎi)力士、美光(guāng)在(zài)全球 DRAM （内(nèi)存）市场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市公司(sī)中，江波龙、佰维存储等公司披露过美光等(děng)国(guó)际存(cún)储厂商为公司供应商。

　　美(měi)光在江波龙采购占比已经显著下降(jiàng)，至少已经(jīng)不是主要大供应商(shāng)。

　　公告显(xiǎn)示， 2021年美光(guāng)位列江波龙第一(yī)大存储(chǔ)晶圆供应(yīng)商，采购(gòu)约(yuē)31亿元(yuán)，占比33.2000克是多少斤 2000克等于多少公斤52％；2022年，江(jiāng)波龙第一(yī)大、第(dì)二大(dà)和第三大供应商采购金额占比分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江(jiāng)波龙已(yǐ)经在存(cún)储产(chǎn)业链(liàn)上下游建立国内(2000克是多少斤 2000克等于多少公斤-height: 24px;'>2000克是多少斤 2000克等于多少公斤nèi)外广泛合(hé)作。2022年年报显示(shì)，江波龙(lóng)与三星(xīng)、美光、西部(bù)数据等(děng)主要存(cún)储晶圆原(yuán)厂签署了长(zhǎng)期合约，确保存储晶圆供应(yīng)的稳(wěn)定性，巩(gǒng)固公司在下游市场(chǎng)的供(gōng)应优势，公司也与国(guó)内(nèi)国(guó)产(chǎn)存储晶圆原厂武汉(hàn)长江(jiāng)存(cún)储(chǔ)、合肥(féi)长鑫(xīn)保持(chí)良好的合(hé)作。

　　有券商此前就分析，如果美(měi)光(guāng)在中国区销售(shòu)受到限(xiàn)制，或将导(dǎo)致下(xià)游客户转而采购国外三星、 SK海力士，国内长(zhǎng)江存储、长鑫存(cún)储等竞(jìng)对产品

　　分析称，长存、长鑫的(de)上(shàng)游(yóu)设(shè)备厂或(huò)从中受(shòu)益。存储器的(de)生产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工(gōng)艺(yì)。另外NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维到3维的结构转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为(wèi)最关(guān)键、最大(dà)量(liàng)的加工设备。3D NAND每层(céng)均需要(yào)经过薄膜沉积(jī)工艺步骤，同时刻(kè)蚀目(mù)前前沿要刻到 60：1的深(shēn)孔，未来可能会(huì)更深的孔或(huò)者沟(gōu)槽(cáo)，催生更多(duō)设备需求。据东京电子披露，薄(báo)膜沉积(jī)设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75％。自长江存储被加入美(měi)国限制名单(dān)，设(shè)备(bèi)国产(chǎn)化进程加速，看好拓荆科(kē)技（薄(báo)膜沉(chén)积）等相关公(gōng)司份(fèn)额提升，以及(jí)存储业务占比(bǐ)较高的华海清科(kē)（CMP）、盛美(měi)上海(hǎi)（清洗(xǐ)）等收入增长。

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