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个子矮可以抱着做,矮个子抱起来做 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看一则突发消息。

  美光公司在华(huá)销售的产品未(wèi)通过网络安全审(shěn)查

  据网(wǎng)信办消息,日前,网络安全审查办(bàn)公室依法对美光公司(sī)在华(huá)销售产品进行了网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查。

  审查(chá)发现,美光公司(sī)产品存在较严重网个子矮可以抱着做,矮个子抱起来做络安(ān)全问(wèn)题隐患,对我国关键(jiàn)信息基础(chǔ)设施(shī)供应链造成重大安全风险,影响我国国家安全。为此,网(wǎng)络安全审查办公(gōng)室(shì)依法作出不予通过网(wǎng)络安全审查的(de)结论。按照《网络安全法》等(děng)法(fǎ)律法规(guī),我国内关(guān)键信(xìn)息(xī)基础设(shè)施的运营者应停止(zhǐ)采(cǎi)购美(měi)光(guāng)公司产品(pǐn)。

  此次(cì)对美(měi)光公(gōng)司产(chǎn)品(pǐn)进行网络安全审查,目的是防(fáng)范产品网络安全问题危害国(guó)家关键(jiàn)信息基础设施安全,是维护国家安全的(de)必要措施。中国坚定推进高水平(píng)对(duì)外开(kāi)放,只(zhǐ)要(yào)遵守中国法律法(fǎ)规要求,欢迎各国(guó)企业(yè)、各类平台产品(pǐn)服务进入(rù)中(zhōng)国市场。

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  3月31日,中(zhōng)国网信网发(fā)文(wén)称,为(wèi)保障关(guān)键信息基础设施供(gōng)应链安全(quán),防(fáng)范产品问题隐患(huàn)造成网络安(ān)全风险,维护(hù)国家安全,依据《中(zhōng)华人民共和国国(guó)家安全法》《中华人民共和国网络安全法》,网络安(ān)全审查办公室按照《网络安全(quán)审查办法》,对(duì)美光(guāng)公司(Micron)在华销(xiāo)售的产(chǎn)品实施网络安(ān)全审查。

  半(bàn)导体突发(fā)!中国(guó)出手:停止(zhǐ)采购!

  美光是美国的(de)存(cún)储芯片行业(yè)龙头(tóu),也是全球存储芯(xīn)片巨头之一,2022年收(shōu)入(rù)来自中(zhōng)国市场(chǎng)收入从此前高峰57%降至2022年(nián)约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计(jì),2021 年三(sān)星电子(zi)、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash (闪存)市场份额(é)约为 96.76%,三星电(diàn)子(zi)、 SK 海力士、美(měi)光在(zài)全球 DRAM (内存(cún))市场(chǎng)份额约为(wèi) 94.35%。

  A股(gǔ)上(shàng)市公司(sī)中,江波(bō)龙(lóng)、佰维存储(chǔ)等公(gōng)司披露过美光等国(guó)际存(cún)储厂商为公司供应商(shāng)。

  美光在江波龙采购占(zhàn)比已(yǐ)经显著下降,至少已经不是主(zhǔ)要大(dà)供应(yīng)商(shāng)。

  公告显示, 2021年美光位列江波龙第一大存储(chǔ)晶圆(yuán)供应商,采(cǎi)购(gòu)约31亿(yì)元,占比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大和第三大供(gōng)应商采购金额(个子矮可以抱着做,矮个子抱起来做é)占比(bǐ)分别是(shì)26.28%、22.85%和5.76%。

  目前(qián)江波龙已经在存储产业链上下游建立国内外(wài)广泛合作(zuò)。2022年年报显示,江波(bō)龙与(yǔ)三星、美光、西部数据等(děng)主要存储晶圆原厂(chǎng)签(qiān)署了长期(qī)合约(yuē),确保存储(chǔ)晶圆(yuán)供应的稳定性,巩固公司(sī)在下游市场的(de)供应优势,公(gōng)司(sī)也(yě)与(yǔ)国(guó)内国产存储晶(jīng)圆原厂武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作。

  有券商此前就分(fēn)析,如(rú)果美光在(zài)中国区(qū)销售受到限(xiàn)制,或将导致下游客户转而采购国外(wài)三星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江(jiāng)存储、长鑫存储等竞对产品

  分析称,长存(cún)、长鑫的(de)上(shàng)游设备(bèi)厂或从中受益。存储(chǔ)器的(de)生(shēng)产已经(jīng)演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已(yǐ)经进入3D NAND时(shí)代,2 维到3维(wéi)的结构(gòu)转变使(shǐ)刻蚀(shí)和(hé)薄(báo)膜成为最(zuì)关(guān)键、最大量的加工(gōng)设备。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻(kè)蚀目前前(qián)沿要(yào)刻到 60:1的深孔(kǒng),未来可能会(huì)更深的孔或者沟槽,催生(shēng)更多设备需求。据东京电(diàn)子(zi)披露,薄膜沉(chén)积设备及刻(kè)蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计(jì)为75%。自长江(jiāng)存储被(bèi)加(jiā)入美国限制名单(dān),设备国产(chǎn)化(huà)进(jìn)程加速,看好(hǎo)拓荆科(kē)技(薄膜(mó)沉积)等相关(guān)公司份(fèn)额提升,以及存储业务占比较高(gāo)的华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收(shōu)入增长。

 

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