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大冤种什么意思,大冤种和大怨种区别

大冤种什么意思,大冤种和大怨种区别 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看一则突发消息。

  美光(guāng)公司在(zài)华销售(shòu)的产品未(wèi)通过网络安全审查

  据网信(xìn)办消息,日前,网络安全审(shěn)查办公室依法对美光公(gōng)司(sī)在(zài)华销售产(chǎn)品进行了网络(luò)安全(quán)审查(chá)。

  审查发现,美光公司(sī)产品存在较严重网络安全问题隐患,对我国关键信息基础设施供应链造成重大(dà)安全(quán)风险(xiǎn),影响我国国家安全。为此,网络安全审查办公室依法作出不予通(tōng)过网(wǎng)络(luò)安全审查的(de)结论。按照(zhào)《网(wǎng)络安(ān)全法》等法(fǎ)律法规,我(wǒ)国(guó)内关键信息基(jī)础设(shè)施的运营(yíng)者应停止采购美光公司产(chǎn)品(pǐn)。

  此次对美光公司产品进行网络安全审(shěn)查,目的是(shì)防(fáng)范产品网络(luò)安全问题(tí)危害国家关键(jiàn)信息基(jī)础设施(shī)安全,是维护国家(jiā)安全的(de)必(bì)要措(cuò)施(shī)。中国坚定推(tuī)进高水(shuǐ)平对外开放,只(zhǐ)要遵守中国法律法规要求,欢迎各(gè)国企(qǐ)业(yè)、各类平台产品服务进入中国(guó)市场。

  半导体突发!中国(guó)出手:停止采(cǎi)购!

  3月31日,中国网(wǎng)信网发文称,为保(bǎo)障关键信息基础设施(shī)供(gōng)应链安全(quán),防(fáng)范(fàn)产(chǎn)品(pǐn)问题(tí)隐(yǐn)患(huàn)造成(chéng)网络(luò)安(ān)大冤种什么意思,大冤种和大怨种区别全(quán)风险,维护国家安(ān)全(quán),依据《中华人民共和国(guó)大冤种什么意思,大冤种和大怨种区别国家安(ān)全法》《中华人民共和国网络安全法》,网络安(ān)全审查办公室按照《网络(luò)安全审查(chá)办法》,对美(měi)光公司(Micron)在(zài)华销售的(de)产品实施网络(luò)安(ān)全审查。

  半(bàn)导体突发!中国出手(shǒu):停止(zhǐ)采购(gòu)!

  美(měi)光(guāng)是美国的存储芯(xīn)片行业龙头,也(yě)是全球(qiú)存储芯片巨头之一,2022年收入来自中国市场(chǎng)收入(rù)从(cóng)此前高峰57%降至2022年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星(xīng)电子(zi)、 铠(kǎi)侠、西部数据、SK 海力士(shì)、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子(zi)、 SK 海力士(shì)、美光在全(quán)球(qiú) DRAM (内存)市场份额约(yuē)为(wèi) 94.35%。

  A股上(shàng)市(shì)公司中,江波龙、佰维存储等公司披露(lù)过美光等国际存储厂商为公司供应商。

  美(měi)光在江波龙采购占(zhàn)比已经显著(zhù)下降,至(zhì)少已经不是主要大供(gōng)应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光位(wèi)列江波龙(lóng)第(dì)一大存储晶(jīng)圆(yuán)供(gōng)应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年(nián),江波龙(lóng)第一大、第二大和(hé)第三(sān)大供应商采购金额占比分(fēn)别(bié)是26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目前(qián)江波龙已经在(zài)存储产(chǎn)业链上下(xià)游建立(lì)国(guó)内外广泛(fàn)合作(zuò)。2022年(nián)年报显示,江波龙与三星、美光、西部数据(jù)等主(zhǔ)要存(cún)储晶圆(yuán)原(yuán)厂(chǎng)签署了长期合约,确保存储晶圆供应的(de)稳定性,巩(gǒng)固公司在下(xià)游市场的供应优(yōu)势(shì),公(gōng)司(sī)也与国(guó)内(nèi)国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江存储、合(hé)肥长鑫保持良好(hǎo)的(de)合作。

  有券(quàn)商此(cǐ)前就(jiù)分(fēn)析(xī),如果美光在中国(guó)区销(xiāo)售受到限制(zhì),或将导致下游客户转而采购(gòu)国外三星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江存储、长(zhǎng)鑫存储等竞对(duì)产品

  分析称,长存、长鑫(xīn)的上游(yóu)设备(bèi)厂或(huò)从中受益。存(cún)储器的(de)生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另(lìng)外NAND Flash现在已经进(jìn)入3D NAND时(shí)代,2 维到(dào)3维的结构转(zhuǎn)变(biàn)使(shǐ)刻蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最(zuì)大量(liàng)的加工设备。3D NAND每层(céng)均需要经过(guò)薄膜沉积工艺(yì)步骤,同时(shí)刻蚀(shí)目前前沿要刻到 60:1的(de)深孔,未来可能会(huì)更深(shēn)的孔或者沟槽,催生(shēng)更多设备需(xū)求。据东京电子(zi)披露,薄膜沉(chén)积(jī)设备及刻(kè)蚀占3D NAND产线资本开(kāi)支(zhī)合计为(wèi)75%。自长江存(cún)储(chǔ)被加入美国限(xiàn)制名(míng)单,设备国产化进程加速,看好拓荆科技(jì)(薄膜沉积)等相关(guān)公司(sī)份(fèn)额提升,以(yǐ)及存储业务占比较高的华海清科(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗(xǐ))等(děng)收入增长(zhǎng)。

 

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