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西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?

西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里? 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融(róng)界4月24日消(xiāo)息,国家(jiā)知(zhī)识产权局局(jú)长申长雨(yǔ)在新(xīn)闻发布会上表示,将统筹推进各类知识产权法律法规和制度(dù)规(guī)则的制(zhì)修订工作。其中(zhōng),修(xiū)改完善集(jí)成(chéng西气东输的起点与终点,西气东输的起止点是哪里?)电(diàn)路布图设(shè)计保护条例,适应大规模(mó)集成电路发展需(xū)要,助(zhù)力芯片产业(yè)做大(dà)做(zuò)强,服(fú)务数字(zì)经济更好发展。

  加强大数(shù)据、人工智能(néng)、基因技术(shù)等新领域新业态知识产权规则研究(jiū),助力(lì)相(xiāng)关领域创新发展。同时,积极参与知识产权国(guó)际规则制定,更好对接高标准(zhǔn)国际经贸(mào)规则,助力高水平对(duì)外开放。

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