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冀g是河北哪里的车牌

冀g是河北哪里的车牌 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家(jiā)好,来看一则突发消息。

  美光公司(sī)在华(huá)销售的(de)产品未通过网络安全审(shěn)查

  据网(wǎng)信办消息,日(rì)前,网络安(ān)全审查办公室依法对(duì)美光(guāng)公司(sī)在华(huá)销(xiāo)售产品进行了网络安全(quán)审(shěn)查。

  审查发现(xiàn),美光公司产品(pǐn)存在较严重网络安全问题隐患,对我国关键信(xìn)息基础设施供应链造成重大(dà)安全(q冀g是河北哪里的车牌uán)风险,影响我国国家安全。为此,网络安全(quán)审查办公室依(yī)法作出不予通(tōng)过网络安全审(shěn)查的结论。按照《网络安全法》等法(fǎ)律法规,我国(guó)内关键信息基础设施的(de)运营者(zhě)应停止采购美光公司产品。

  此次对(duì)美(měi)光公(gōng)司产品进行网(wǎng)络安全审查,目的是防范产品网络安(ān)全问题(tí)危害国家关键信息基础设(shè)施安全,是维护国家(jiā)安全的(de)必要措施。中国坚(jiān)定(dìng)推进高水平对外开放(fàng),只要遵守中国法律法规要(yào)求,欢迎各(gè)国企业(yè)、各类平台(tái)产品(pǐn)服务(wù)进入中国市场。

  半导(dǎo)体突(tū)发!中国出手:停止采(cǎi)购!

  3月31日(rì),中(zhōng)国网信网发文(wén)称,为保障关键信息基础设施供应链安(ān)全,防范产品(pǐn)问(wèn)题隐患造成网络安(ān)全风险,维护国家安全,依据《中华人(rén)民共(gòng)和(hé)国国家(jiā)安全法》《中华人民共和国网络安全法》,网络(luò)安全(quán)审(shěn)查(chá)办公室按照《网(wǎng)络安全(quán)审查(chá)办法》,对美光公(gōng)司(Micron)在华销售的产(chǎn)品实(shí)施(shī)网(wǎng)络安全审(shěn)查。

  半导体(tǐ)突发!中国出手:停止(zhǐ)采购(gòu)!

  美光是美国的存(cún)储芯片行业龙头,也是全球存(cún)储芯片巨头之一,2022年(nián)收入来自中(zhōng)国市场(chǎng)收入从此(cǐ)前高峰(fēng)57%降至2022年约(yuē)11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星电子、 铠侠(xiá)、西部数据、SK 海(hǎi)力(lì)士(shì)、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约(yuē)为 96.76%,三星电子、 SK 海力士(shì)、美光(guāng)在全球 DRAM (内存(cún))市场(chǎng)份额约(yuē)为 94.35%。

  A股上市(shì)公(gōng)司中,江波龙、佰维存储(chǔ)等公司披露(lù)过美光(guāng)等国际存(cún)储(chǔ)厂商为公(gōng)司供应商(shāng)。

  美(měi)光在江(jiāng)波龙采购占比已经(jīng)显著下降,至少已(yǐ)经(jīng)不是主要大供应商。

  公告显示(shì), 2021年(nián)美光位列江波龙第一大存(cún)储晶圆供应商(shāng),采购约31亿元(yuán),占(zhàn)比(bǐ)33.52%;2022年(nián),江波龙第(dì)一大、第二大和第三大供应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在存(cún)储产(chǎn)业链上下游建立国内(nèi)外(wài)广泛合作。2022年年报(bào)显示(shì),江波龙(lóng)与(yǔ)三星、美光、西部(bù)数据等主(zhǔ)要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合约,确保存储晶圆供应的(de)稳定性,巩固公司在下游(yóu)市场的供应(yīng)优势,公司(sī)也与(yǔ)国内国产(chǎn)存(cún)储晶(jīng)圆原(yuán)厂武汉长(zhǎng)江存(cún)储、合肥长鑫(xīn)保持良好的合作。

  有券商此前就(jiù)分(fēn)析,如果美(měi)光(guāng)在中国区销(xiāo)售受(shòu)到限制,或将导(dǎo)致下游客户转(zhuǎn)而采购国(guó)外三星(xīng)、 SK海(hǎi)力士(shì),国内长江存(cún)储、长(zhǎng)鑫存(cún)储等竞(jìng)对产(chǎn)品

  分(fēn)析称,长存、长鑫的上游设备(bèi)厂或从(cóng)中受益。存储器的生产(chǎn)已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维(wéi)到(dào)3维的结(jié)构转变使(shǐ)刻蚀和薄膜成为最关键、最大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需要(yào)经过薄膜沉积工艺(yì)步骤,同时刻蚀目前(qián)前沿要刻到(dào) 60:1的(de)深孔(kǒng),未(wèi)来可能(néng)会(huì)更深的(de)孔或者沟槽(cáo),催生更多设备(bèi)需求。据东京(jīng)电(diàn)子(zi)披露,薄膜沉积设(shè)备及(jí)刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75%。自长江存储被加入美国限制名(míng)单,设备国(guó)产(chǎn)化进程加速,看好拓荆科技(薄膜沉积)等相关公司份额提升,以及存储业(yè)务占比较高的华海清(qīng)科(kē)(CMP)、盛(shèng)美上(shàng)海(清(qīng)洗)等(děng)收入增长。

 

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