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　　大家好，来看一则突发消息。

　　美光(guāng)公司在华销售(shòu)的产品未通过网(wǎng)络安全审查(chá)

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络安全(quán)审查办公室依法对(duì)美光公司在华销售产品进行了(le)网(wǎng)络安全审查(chá)。

　　审查(chá)发现，美(měi)光(guāng)公司产品存在较严重网络安(ān)全问题隐(yǐn)患，对我国关键信息基础设施供应(yīng)链造成重(zhòng)大安全风险，影响我国国家安全。为此，网络安全审查办公室依(yī)法作出不予通过(guò)网(wǎng)络安(ān)全审查的结论。按照《网络安全法》等法律(lǜ)法(fǎ)规，我国(guó)内关键信息基础设施(shī)的运营(yíng)者应停(tíng)止采购(gòu)美光(guāng)公司产品。

　　此次对美(měi)光公司产(chǎn)品进行网络安(ān)全(quán)审查(chá)，目的是(shì)防(fáng)范产品网络安(ān)全(quán)问(wèn)题危害国家关键信息(xī)基础设施安全，是维护国家安(ān)全的必(bì)要(yào)措施。中国(guó)坚夏天家中有小飞虫怎么办 夏天家中有小飞虫怎么消灭定推进高(gāo)水平(píng)对外开放，只要遵(zūn)守中(zhōng)国法律(lǜ)法规要求，欢(huān)迎各国企业、各类平台(tái)产品服(fú)务(wù)进(jìn)入中国(guó)市(shì)场。

　　3月31日，中国网信网发文(wén)称(chēng)，为(wèi)保障关键信息基础设施供(gōng)应链(liàn)安全，防(fáng)范(fàn)产品问题隐患造成网络安全风(fēng)险，维护国家(jiā)安全，依据《中华人民(mín)共和国国(guó)家(jiā)安全(quán)法(fǎ)》《中华人民(mín)共和国网络安全(quán)法》，网络安全审(shěn)查办公室(shì)按照《网络安全审查办法》，对(duì)美光公司（Micron）在(zài)华销(xiāo)售的产品实施网络(luò)安全审查(chá)。

　　美光是美国的(de)存储芯片行业龙头，也是全球存储芯片巨头之一，2022年收入来自中国市场收入从此前高峰57％降至(zhì)2022年约11％。根据市场(chǎng)咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年三星(xīng)电子、 铠侠(xiá)、西(xī)部数据、SK 海力士、美(měi)光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份(fèn)额约为 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球 DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市(shì)公司中，江波龙、佰(bǎi)维存储等(děng)公司(sī)披露过美光等国际(jì)存储厂商(shāng)为(wèi)公司供(gōng)应商。

　　美(měi)光在江(jiāng)波龙采购占比已经(jīng)显著下降(jiàng)，至少已经不(bù)是主要大供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美(měi)光位列江波龙第(dì)一大(dà)存储晶圆供(gōng)应商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年(nián)，江波(bō)龙第一大、第二大和第三大供应商采购金(jīn)额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经(jīng)在存储(chǔ)产业链上下游建立国内外广泛合(hé)作。2022年年报(bào)显(xiǎn)示，江波龙与三星、美光、西部数据等(děng)主要存(cún)储晶(jīng)圆(yuán)原厂签署了长(zhǎng)期合约，确保存储晶圆供(gōng)应的稳定性(xìng)，巩固公司在(zài)下游市(shì)场(chǎng)的供(gōng)应优势，公司也(yě)与国(guó)内(nèi)国产存储晶圆原厂武汉长江存储、合(hé)肥长鑫保持良(liáng)好的合(hé)作。

　　有券商此前就分析(xī)，如果美光在中(zhōng)国区销售受到限制，或(huò)将导致下游(yóu)客户转而采购国外三星、 SK海力士，国内(nèi)长江存储、长鑫存(cún)储等竞对(duì)产品

　　分析称，长存、长鑫的上游设(shè)备厂或(huò)从中受益。存储器(qì)的生产已经(jīng)演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺(yì)。另(lìng)外NAND Flash现(xiàn)在已经进(jìn)入3D NAND时代(dài)，2 维(wéi)到3维的(de)结构转变使刻蚀和薄膜成为最(zuì)关键、最(zuì)大量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄膜沉积工艺步(bù)骤(zhòu)，同时刻蚀目前前沿要(yào)刻到 60：1的深孔，未来(lái)可(kě)能会更深的(de)孔或(huò)者沟槽，催生更(gèng)多设备需求。据东(dōng)京电(diàn)子(zi)披露(lù)，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75％。自长江(jiāng)存(cún)储(chǔ)被加入美国限制名单，设备(bèi)国(guó)产(chǎn)化进程加速(sù)，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关(guān)公司份(fèn)额(é)提(tí)升，以及存(cún)储业务占比较高的华海清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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