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穿着高跟鞋的女奥特曼,穿红色高跟鞋的奥特曼

穿着高跟鞋的女奥特曼,穿红色高跟鞋的奥特曼 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大(dà)家好,来看一(yī)则突发消息(xī)。

  美光(guāng)公司在华销售(shòu)的产(chǎn)品未通过网络(luò)安全审查(chá)

  据网信办消息,日前,网络安全(quán)审查(chá)办公室依法(fǎ)对美光公司(sī)在华销(xiāo)售产品进行(xíng)了(le)网络安全审查(chá)。

  审(shěn)查发现,美光(guāng)公司产品存在较严重网(wǎng)络安(ān)全(quán)问题隐患,对我(wǒ)国关(guān)键信息基础(chǔ)设施供应链造成重大安(ān)全风(fēng)险,影响我国国家安全。为此,网络安全审查(chá)办公室依法(fǎ)作出不予通过网络安全(quán)审(shěn)查的结论。按(àn)照《网络安全法》等法律法规,我国(guó)内关键信息(xī)基础设施的运营(yíng)者应停止采购美光公司产(chǎn)品(pǐn)。

  此次对美光公司(sī)产品(pǐn)进(jìn)行(xíng)网(wǎng)络安(ān)全审(shěn)查,目的是防范(fàn)产品网(wǎng)络安全问(wèn)题危害(hài)国家关键信息基础(chǔ)设施安全,是维护国家安全的(de)必要措施。中(zhōng)国坚定推进高水平对外开(kāi)放,只(zhǐ)要遵守中国法律法(fǎ)规要求,欢迎各国企业、各类平台产品服务进入中国(guó)市场(chǎng)。

  半(bàn)导(dǎo)体(tǐ)突发!中国出手:停止(zhǐ)采购(gòu)!

  3月31日,中国网(wǎng)信(xìn)网(wǎng)发(fā)文称,为保障关键信息基础设施供应链安全,防范(fàn)产品(pǐn)问题隐患造成(chéng)网络(luò)安全(quán)风险(xiǎn),维(wéi)护国家(jiā)安全,依据《中华人民(mín)共和国国家安全法》《穿着高跟鞋的女奥特曼,穿红色高跟鞋的奥特曼中华人(rén)民共和国网(wǎng)络(luò)安全法》,网络安全审查(chá)办(bàn)公室按照《网络安全(quán)审查办法》,对美光公司(Micron)在华销(xiāo)售(shòu)的产(chǎn)品实施网(wǎng)络安(ān)全审查。

  半导体突发!中国出手:停止采(cǎi)购!

  美(měi)光(guāng)是美国的存储芯片行业(yè)龙头,也是(shì)全球存储芯片巨头之一,2022年收(shōu)入来自中国市场收入从(cóng)此(cǐ)前(qián)高峰57%降(jiàng)至2022年约11%。根据市场咨(zī)询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星(xīng)电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海(hǎi)力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约(yuē)为 96.76%,三星电子(zi)、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份(fèn)额(é)约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙(穿着高跟鞋的女奥特曼,穿红色高跟鞋的奥特曼lóng)、佰维(wéi)存储等(děng)公(gōng)司披露过美光等国(guó)际存储厂(chǎng)商为(wèi)公司供应商。

  美光(guāng)在(zài)江波龙(lóng)采购占比(bǐ)已(yǐ)经显著(zhù)下降,至少已经不(bù)是主(zhǔ)要大供应(yīng)商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光位列江波龙第一(yī)大(dà)存储晶圆供应商,采购约(yuē)31亿元,占比33.52%;2022年(nián),江波龙第一大、第(dì)二大和(hé)第三大供应商采购金(jīn)额占比分别是(shì)26.28%、22.85%和(hé)5.76%。

  目前江波(bō)龙已经在存储(chǔ)产业(yè)链上(shàng)下(xià)游建立国内外广泛合作。2022年年报显示,江波(bō)龙(lóng)与三星、美光(guāng)、西部数据等主要存储晶圆原厂签署了长(zhǎng)期合约(yuē),确保存(cún)储晶圆供(gōng)应的稳(wěn)定性,巩固公司在下游(yóu)市场的供应优势,公(gōng)司也与国内国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉长江存储、合肥长鑫保持(chí)良好的合作。

  有(yǒu)券商此前就分析(xī),如果(guǒ)美光在中国(guó)区销售受到限(xiàn)制(zhì),或将导致(zhì)下游(yóu)客户转而采购国外三星、 SK海力士,国(guó)内长江存储、长鑫存储等竞对产品

  分析(xī)称,长(zhǎng)存、长鑫(xīn)的上游设(shè)备厂或从(cóng)中受益。存储器的(de)生产已(yǐ)经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到3维(wéi)的(de)结构(gòu)转变(biàn)使刻蚀和薄膜成为最关键、最(zuì)大量的(de)加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步(bù)骤,同时刻蚀目前前沿要刻到(dào) 60:1的深孔,未来可能会更深(shēn)的孔或者(zhě)沟槽,催(cuī)生(shēng)更多设备需求(qiú)。据东京电子披(pī)露,薄(báo)膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线资本(běn)开支合计为75%。自(zì)长江存(cún)储被加入(rù)美国(guó)限(xiàn)制名单(dān),设备国产化(huà)进(jìn)程加(jiā)速,看好拓荆科技(薄膜沉积)等相关(guān)公司份额(é)提升,以及存储业(yè)务占比(bǐ)较高的华(huá)海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入增长(zhǎng)。

 

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