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一山放过一山拦全诗原版,一山放过一山拦全诗是什么诗 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来(lái)看一则突发(fā)消息(xī)。

  美光公司在华销售(shòu)的产品未(wèi)通过网络安(ān)全审查(chá)

  据(jù)网信办(bàn)消息,日前,网络(luò)安全审查办公(gōng)室依法对美光(guāng)公(gōng)司(sī)在华销售产品进行了网络(luò)安全(quán)审查。

  审查发现,美光公(gōng)司产品存在较严(yán)重网络安全问题隐患,对我国关键信息(xī)基(jī)础设施供应链造成重(zhòng)大安全(quán)风险,影响我国国家安全。为(wèi)此,网络安全审查(chá)办公室依法(fǎ)作(zuò)出不(bù)予通过(guò)网络安(ān)全审查的结论。按照《网络安全法(fǎ)》等法律法规,我(wǒ)国内关键(jiàn)信息(xī)基础(chǔ)设施的运营者应停止采购(gòu)美光公司产品(pǐn)。

  此次对美光公(gōng)司(sī)产品进行网络(luò)安全审查,目的是防范产品网络(luò)安全问题危害国家关(guān)键信息基(jī)础设施(shī)安(ān)全,是维(wéi)护国家安全的必(bì)要措施。中国坚定(dìng)推(tuī)进高水平对外开放,只要遵守中国法律法(fǎ)规要求,欢迎各国企业、各类(lèi)平台(tái)产品服务(wù)进入(rù)中国市场。

  半导(dǎo)体突发(fā)!中国(guó)出(chū)手:停止采购!

  3月31日,中国网(wǎng)信网发文(wén)称,为保(bǎo)障关键信(xìn)息基础设施供应链安全,防范产品问(wèn)题隐(yǐn)患造(zào)成(chéng)网(wǎng)络安全(quán)风险,维护国(guó)家安全,依据(jù)《中华人民共和(hé)国国家安全法》《中华人民共和(hé)国网络安全法》,网络(luò)安全审查办(bàn)公室按照(zhào)《网络安全审查(chá)办法》,对美光公(gōng)司(Micron)在(zài)华销售的产品实施网络(luò)安全审查。

<一山放过一山拦全诗原版,一山放过一山拦全诗是什么诗p>  半导体突(tū)发!中国出手:停止采购(gòu)!

  美光是美(měi)国的存(cún)储芯片行业龙头,也(yě)是全球(qiú)存(cún)储芯(xīn)片巨(jù)头(tóu)之一,2022年(nián)收入(rù)来自中(zhōng)国(guó)市场收(shōu)入从此前高(gāo)峰57%降(jiàng)至2022年约11%。根(gēn)据(jù)市(shì)场咨询机构(gòu) Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠(xiá)、西部数(shù)据、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在(zài)全(quán)球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星(xīng)电子(zi)、 SK 海力士(shì)、美光在(zài)全球 DRAM (内存(cún))市(shì)场份额约为 94.35%。

  A股上(shàng)市公司(sī)中,江波龙、佰(bǎi)维存储等公司披露过(guò)美光等(děng)国际存(cún)储厂商为公(gōng)司供应(yīng)商(shāng)。

  美光在(zài)江波龙采购占比(bǐ)已经显著下降,至少已经不是主(zhǔ)要大供(gōng)应商。

  公告显示, 2021年美光位列江波(bō)龙第一(yī)大存(cún)储(chǔ)晶圆(yuán)供应商,采(cǎi)购约31亿元,占比(bǐ)33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大(dà)和第三大(dà)供应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江(jiāng)波龙已经(jīng)在(zài)存储产业链上下游建(jiàn)立国(guó)内(nèi)外广(guǎng)泛合作。2022年(nián)年(nián)报显示,江波龙与三星、美光、西部数据(jù)等主要存(cún)储晶圆原(yuán)厂签署了长期合约,确保存(cún)储晶圆供应的稳定性,巩(gǒng)固公司在下游市场的供应优势(shì),公司也与国内国产(chǎn)存储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储(chǔ)、合肥(féi)长鑫保(bǎo)持良好的合作。

  有(yǒu)券商(shāng)此前就(jiù)分析,如果美光(guāng)在中国区(qū)销售受到限(xiàn)制(zhì),或将导致下游(yóu)客户转而采购国(guó)外三星、 SK海力士(shì),国内长江存储、长鑫存储等竞对(duì)产品

  分析(xī)称,长存、长鑫的(de)上游(yóu)设备厂或(huò)从(cóng)中受益(yì)。存储(chǔ)器的(de)生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工艺(yì)。另外NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代,2 维(wéi)到3维(wéi)的结(jié)构转(zhuǎn)变(biàn)使刻(kè)蚀和(hé)薄(báo)膜(mó)成为最关(guān)键、最大量的加(jiā)一山放过一山拦全诗原版,一山放过一山拦全诗是什么诗工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经过薄膜沉(chén)积工(gōng)艺(yì)步骤,同时刻蚀目前(qián)前(qián)沿要刻(kè)到 60:1的(de)深(shēn)孔,未来可能会更深的孔或者沟槽,催(cuī)生更多设备需求。据(jù)东(dōng)京电子披露,薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线(xiàn)资本(běn)开支(zhī)合计为75%。自长江(jiāng)存储(chǔ)被加入美国限制名单,设备国产化进程加(jiā)速,看好(hǎo)拓荆科技(薄膜(mó)沉积)等相关公(gōng)司份额(é)提升(shēng),以及存储业务占比(bǐ)较(jiào)高的华海清科(CMP)、盛美上(shàng)海(清洗)等收入增长(zhǎng)。

 

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