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　　美光公司(sī)在华销售(shòu)的产品未通过网(wǎng)络(luò)安全审查(chá)

　　据(jù)网信办(bàn)消息，日前，网(wǎng)络安全审查办公室依法对美光公司在华销售产(chǎn)品(pǐn)进行了网络安(ān)全审查(chá)。

　　审查(chá)发(fā)现，美光公(gōng)司(sī)产品(pǐn)存在(zài)较严重网络(luò)安(ān)全问题隐患，对(duì)我国关键信息基础设施供应链造成重(zhòng)大安全风险，影响我国国(guó)家安全。为此，网(wǎng)络安全审(shěn)查(chá)办公室(shì)依法作(zuò)出不予(yǔ)通过网络安全审查的(de)结论。按照(zhào)《网络安全(quán)法》等法律法规，我(wǒ)国内关键(jiàn)信息(xī)基础设施的运营者应停止采购(gòu)美光公司产(chǎn)品。

　　此次对(duì)美光公司产品进(jìn)行(xíng)网络安(ān)全审查，目的是(shì)防(fáng)范产品网络安全(quán)问题危害国家关键信息基础设施安全，是(shì)维(wéi)护国家安全的(de)必要(yào)措施。中国坚定(dìng)推进高水(shuǐ)平(píng)对(duì)外开放，只要遵守中国法律法规要求，欢迎各国企(qǐ)业、各类平(píng)台产(chǎn)品服务进(jìn)入中国市场。

　　3月(yuè)31日，中国网信网发文称，为保障关键(jiàn)信息基础设施供应链安全，防范在电脑里登陆一个邮箱 要去哪登陆？该怎么登陆呢，邮箱电脑怎么登录产品问题隐患(huàn)造(zào)成网(wǎng)络安(ān)全风险，维护国家安全，依据《中华(huá)人民共和国国(guó)家(jiā)安(ān)全法》《中华人民共(gòng)和国网络安全法》，网络安全审查(chá)办公(gōng)室按照《网络安全审查办法(fǎ)》，对(duì)美光公(gōng)司（Micron）在华(huá)销(xiāo)售的产品(pǐn)实(shí)施网络安全审(shěn)查。

　　美光(guāng)是(shì)美国的存储芯片行业(yè)龙头，也(yě)是全球存储芯片巨(jù)头之一，2022年收入(rù)来自中国市场收入从此前高峰5在电脑里登陆一个邮箱 要去哪登陆？该怎么登陆呢，邮箱电脑怎么登录7％降至2022年约11％。根据市场咨(zī)询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠(xiá)、西部(bù)数据、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪(shǎn)存(cún)）市(shì)场份(fèn)额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力(lì)士(shì)、美(měi)光在全球 DRAM （内(nèi)存）市场份(fèn)额(é)约为 94.35％。

　　A股上市公司中，江(jiāng)波龙(lóng)、佰(bǎi)维(wéi)存储等公司披(pī)露过(guò)美(měi)光等(děng)国际存储(chǔ)厂(chǎng)商(shāng)为公(gōng)司供应商。

　　美光在江波龙采购占(zhàn)比已经(jīng)显著下降(jiàng)，至少已(yǐ)经不是(shì)主(zhǔ)要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位列江(jiāng)波龙第一大(dà)存储晶圆供应商，采购约31亿元，占(zhàn)比33.52％；2022年(nián)，江波龙(lóng)第一大、第二大和第三大(dà)供应商采购(gòu)金额(é)占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波(bō)龙已经在存储产业链上下游建立(lì)国内外广泛合(hé)作(zuò)。2022年年报显示，江波龙与三星、美(měi)光、西(xī)部数据等(děng)主要存储晶圆原厂(chǎng)签署了长期(qī)合约，确保存储晶圆(yuán)供应的稳定性，巩固(gù)公司在下游市场的供应优势，公司(sī)也与国内国产存储晶圆原厂武(wǔ)汉长(zhǎng)江存储、合肥长鑫保(bǎo)持良好的合(hé)作。

　　有券商此前就(jiù)分析，如果美光在(zài)中国区销售受(shòu)到限制，或(huò)将(jiāng)导致下游(yóu)客户(hù)转(zhuǎn)而采购国外三(sān)星(xīng)、 SK海(hǎi)力(lì)士，国内(nèi)长江存(cún)储、长(zhǎng)鑫存储等(děng)竞对产(chǎn)品

　　分(fēn)析称，长存、长鑫的上游设备(bèi)厂或从(cóng)中受益。存储器的(de)生产(chǎn)已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进入(rù)3D NAND时(shí)代，2 维到(dào)3维的结构转变使刻(kè)蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉(chén)积(jī)工艺步(bù)骤，同时刻蚀目前(qián)前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能(néng)会(huì)更深(shēn)的孔(kǒng)或者沟槽，催生更多设备需求。据(jù)东(dōng)京(jīng)电子(zi)披露，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75％。自长江存储被加入美国限制名单(dān)，设备国产化进程(chéng)加速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关(guān)公司份额提升(shēng)，以(yǐ)及(jí)存储业务占比较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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