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fio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思,氧合指数的计算公式 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家知识产权局(jú)局(jú)长申长(zhǎng)雨在新(xīn)闻发(fā)布会上表示,将统筹推进各类知识产权法(fǎ)律法规和制度(dù)规则(zé)的(de)制修订工作。其中,修改完(wán)善集成电路布图设计保护条例,适应大(dà)规模集成电路发展需要,助力(lì)芯片产业做(zuò)大做强,服(fú)务数字经济更好(hǎo)发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据、人工智能(néng)、基(jī)因技术等新领域(yù)新业态知(zhī)识产权规(guī)则研究,助力相(xiāng)关领域创新发展。同时,积极参与知识产权国际规(guī)则制定,更好对接高(gāo)标准国际经贸规则(zé),助fio2吸氧浓度计算公式中的4是什么意思,氧合指数的计算公式力高(gāo)水平对(duì)外开放。

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