大家好(hǎo)，来看一则(zé)突发消息。

　　美光(guāng)公司在华销(xiāo)售的产品未(wèi)通(tōng)过网络安全审查(chá)

　　据网信办消息，日前(qián)，网络(luò)安(ān)全审查办公(gōng)室依法对美光公司在华销(xiāo)售产品(pǐn)进(jìn)行了网络安(ān)全审查。

　　审查发现，美光公司(sī)产品存在较(jiào)严重(zhòng)网络(luò)安全(quán)问题隐患(huàn)，对我(wǒ)国关键(jiàn)信息(xī)基(jī)础设施供应链造成重大安全风(fēng)险，影响(xiǎng)我国国家安(ān)全。为此，网络安全审查办公室依法作出不(bù)予通过(guò)网络(luò)安全(quán)审查的结论。按照(zhào)《网络安全法》等法律法规，我国(guó)内关(guān)键信息基础设(shè)施的运营(yíng)者应停止采(cǎi)购美光公司产品。

　　此次对美光(guāng)公司产品进行网(wǎng)络(luò)安全审查(chá)，目的是防范产品网络安全问题危害国家关键信息基础设(shè)施安全，是维护国家安(ān)全的必要措施。中国(guó)坚定(dìng)推进高水平对外开(kāi)放，只(zhǐ)要遵守中国(guó)法律法规要求，欢迎各(gè)国企业、各类(lèi)平台(tái)产品服务(wù)进入(rù)中国(guó)市场。

　　3月31日(rì)，中国网(wǎng)信网发文称(chēng)，为保(bǎo)障关键信息基础设施供(gōng)应链安(ān)全，防范产品问题隐患造成(chéng)网络安(ān)全风险，维护国家安新冠密接人员需要隔离多少天最新政策，新冠密接人员要隔离多久全(quán)，依(yī)据《中华人民共和国(guó)国(guó)家安全法》《中华人民共和国网络安全法》，网络(luò)安全(quán)审查(chá)办公室按(àn)照《网络安全(quán)审查办(bàn)法》，对(duì)美光(guāng)公司(sī)（Micron）在华销售的产品实施网络安(ān)全审查(chá)。

　　美光(guāng)是美国的存储芯片行业(yè)龙(lóng)头，也是全球存储芯片(piàn)巨头之(zhī)一，2022年收入(rù)来自中国市场收入从此前高峰57％降至2022年约11％。根据(新冠密接人员需要隔离多少天最新政策，新冠密接人员要隔离多久jù)市场咨(zī)询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球(qiú) DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市公司(sī)中，江(jiāng)波龙、佰维存储等公司(sī)披露(lù)过美光等国(guó)际存储厂商为公司供应商。

　　美光(guāng)在江波龙(lóng)采(cǎi)购占比(bǐ)已经显(xiǎn)著下降(jiàng)，至少(shǎo)已经不是主要大供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美光(guāng)位列(liè)江波(bō)龙第一大存储晶(jīng)圆供(gōng)应商(shāng)，采购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年(nián)，江波龙第一大、第二大(dà)和第(dì)三大(dà)供应商采购金额占(zhàn)比分别(bié)是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业链(liàn)上下游建立国内(nèi)外广泛合作。2022年年报显示，江波(bō)龙与(yǔ)三(sān)星(xīng)、美(měi)光、西(xī)部数(shù)据等主要存储(chǔ)晶圆原(yuán)厂签(qiān)署了长期合约，确保存(cún)储晶圆供应(yīng)的稳定(dìng)性，巩固公(gōng)司在下游市场的(de新冠密接人员需要隔离多少天最新政策，新冠密接人员要隔离多久)供应(yīng)优势，公司也与国(guó)内国产存(cún)储晶圆原厂武汉长江(jiāng)存储、合肥长鑫保持良好的合作。

　　有(yǒu)券商(shāng)此前就(jiù)分析，如果美光在中国区销售受到限制，或将导致下游客户转而采购(gòu)国外三星(xīng)、 SK海力士，国(guó)内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产品

　　分析称，长存、长鑫的上游设备厂或从(cóng)中受益。存储器的(de)生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺(yì)。另外(wài)NAND Flash现在已经进入(rù)3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结(jié)构转变使刻蚀和薄膜成(chéng)为最关键、最大量的加(jiā)工设备。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄膜沉积工(gōng)艺步骤，同时刻(kè)蚀目(mù)前前(qián)沿要刻到 60：1的深孔，未来(lái)可能(néng)会更深的孔或者沟(gōu)槽，催生更(gèng)多设(shè)备(bèi)需(xū)求。据东(dōng)京(jīng)电(diàn)子披露，薄膜沉积设备(bèi)及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线(xiàn)资本开支合计(jì)为75％。自长江存储被加入美国(guó)限制名(míng)单，设备国(guó)产化(huà)进程(chéng)加速(sù)，看好(hǎo)拓荆(jīng)科技（薄膜沉积）等相关公司份(fèn)额提升(shēng)，以及存(cún)储业务占比较高的华海(hǎi)清科（CMP）、盛美上海(hǎi)（清洗）等收(shōu)入增长。

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