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　　美光公司在华(huá)销售的(de)产品(pǐn)未(wèi)通(tōng)过网络安全(quán)审查(chá)

　　据网信办消息，日前，网络安(ān)全(quán)审(shěn)查办公(gōng)室(shì)依法对美光公司在华销售产品进行了网络(luò)安全审查。

　　审查(chá)发现，美光公司产(chǎn)品存在较严(yán)重网络安全(quán)问(wèn)题隐患，对我(wǒ)国关键信息基础设施供(gōng)应链造成重大安全风险，影(yǐng)响我国国家安全。为(wèi)此，网络安全审查办公室依法作出不予通过网络安(ān)全(quán)审(shěn)查的结论。按照《网络安全法》等法律法规(guī)，我国内(nèi)关键(jiàn)信息基(jī)础设施的(de)运营者应停止采购(gòu)美光公司产品。

　　此(cǐ)次对(duì)美光公司产(chǎn)品(pǐn)进行(xíng)网络安全审查，目的是(shì)防范产(chǎn)品网(wǎng)络安全(quán)问(wèn)题危(wēi)害国家关键信息基础设施安全，是维护国家安全的必(bì)要措施(shī)。中(zhōng)国坚定推进高水平对外开放，只要(yào)遵守中国法律法规要求，欢迎各国(guó)企业、各类(lèi)平台产品(pǐn)服(fú)务进入中国(guó)市场。

　　3月31日，中国网信网发文称，为(wèi)保(bǎo)障关键(jiàn)信(xìn)息基(jī)础设施供应(yīng)链(liàn)安全(quán)，防(fáng)范产品问题隐患造(zào)成(chéng)网络安全风(fēng)险，维护国家(jiā)安全，依(yī)据《中华(huá)人民(mín)共和国国家安全法》《中华人民共和国网络(luò)安全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按照《网络安全审查办法》，对美光公司（Micron）在华销售(shòu)的产(chǎn)品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存(cún)储芯片(piàn)行业龙头，也是全(quán)球存储芯片巨头(tóu)之一，2022年收(shōu)入来自中国市场收入(rù)从此前高峰57％降至2022年约(yuē)11％。根据(jù)市(shì)场咨询机构(gòu) Omdia复刻版是正品吗，复刻是不是假货的意思（IHS Markit）统计，2021 年三星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额(é)约为 96.76％，三(sān)星电子、 SK 海力士、美光在全(quán)球(qiú) DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市(shì)公(gōng)司中(zhōng)，江(jiāng)波龙、佰维存储等(děng)公司披露(lù)过美光等国际(jì)存(cún)储厂商为公司供应商(shāng)。

　　美光在江波(bō)龙采购(gòu)占(zhàn)比已经显著(zhù)下降(jiàng)，至少已经不是主要大供(gōng)应商。

　　公告(gào)显示， 2021年美光位列江波龙第一大存储(chǔ)晶圆供应商，采购约31亿元，占比(bǐ)33.52％；2022年，江波龙第一(yī)大、第二大和第三(sān)大供(gōng)应商采购(gòu)金额占比分别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经在存储产业链(liàn)上下游建立(lì)国内外广泛合作(zuò)。2022年年报显(xiǎn)示，江波龙(lóng)与三星、美光、西部数据等主要存储晶圆原厂签(qiān)署了长(zhǎng)期合(hé)约，确(què)保存(cún)储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下游(y复刻版是正品吗，复刻是不是假货的意思óu)市(shì)场的供应(yīng)优势，公司(sī)也与国内国产存储晶圆原(yuán)厂武汉长(zhǎng)江存储、合肥(féi)长鑫(xīn)保持良好的合(hé)作。

　　有(yǒu)券商此前(qián)就分(fēn)析，如果美光(guāng)在中国区(qū)销售(shòu)受到限制，或将导(dǎo)致下游客户转而(ér)采购国(guó)外(wài)三星、 SK海力(lì)士(shì)，国内长江存储、长鑫存储等竞(jìng)对产品

　　分析称，长存(cún)、长鑫的上游(yóu)设备(bèi)厂或从中(zhōng)受(shòu)益。存储器(qì)的生(shēng)产已(yǐ)经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在(zài)已经进(jìn)入3D NAND时代(dài)，2 维到3维的结构(gòu)转变(biàn)使刻蚀和(hé)薄(báo)膜(mó)成为最关(guān)键、最大量(liàng)的加工设备。3D NAND每层均(jūn)需(xū)要经过薄膜沉积工(gōng)艺步骤，同时刻蚀(shí)目前前(qián)沿要刻到(dào) 60：1的深(shēn)孔(kǒng)，未来可能会(huì)更深(shēn)的孔(kǒng)或(huò)者沟槽，催(cuī)生更多设备需求(qiú)。据东京(jīng)电子披(pī)露(lù)，薄膜(mó)沉积设(shè)备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合计为75％。自长(zhǎng)江存(cún)储被(bèi)加入美(měi)国(guó)限制名(míng)单(dān)，设备国(guó)产(chǎn)化进程加速，看好(hǎo)拓荆科技（薄膜沉积）等(děng)相关公司份额提升，以及(jí)存(cún)储业务占(zhàn)比较高的华海清科（CMP）、盛(shèng)美上海（清洗）等收入增(zēng)长。

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